Gesellschaft Huawei patentierte eine der wichtigen Komponenten, die in EUV-Lithographiesystemen (Extrem-Ultraviolett-Lithographie) verwendet werden, die für die Herstellung hochwertiger Prozessoren in einem technologischen Prozess von bis zu 10 nm erforderlich ist. Es löst das Problem von Interferenzmustern, die durch ultraviolettes Licht erzeugt werden und die Platte sonst uneben machen würden.
Das Unternehmen befindet sich in der Endphase der Produktion von Mikroschaltungen Huawei löste das Problem, das durch winzige Wellenlängen von extrem ultraviolettem Licht verursacht wurde. Das Patent des Unternehmens beschreibt eine Reihe von Spiegeln, die einen Lichtstrahl in mehrere Teilstrahlen aufteilen, die mit ihren eigenen mikroskopischen Spiegeln kollidieren.
Derzeit werden EUV-Lithografiesysteme ausschließlich von der niederländischen Firma ASML hergestellt. Sie basieren auf den gleichen Prinzipien wie ältere Formen der Lithographie, verwenden jedoch Licht mit einer Wellenlänge von etwa 13,5 nm, was fast Röntgenstrahlung entspricht. ASML erzeugt ultraviolettes Licht aus sich schnell bewegenden Tröpfchen aus geschmolzenem Zinn mit einem Durchmesser von etwa 25 Mikrometern.
„Während des Falls“, erklärt ASML, „fallen Tröpfchen zuerst unter einen Laserpuls geringer Intensität, der sie zu einem Pfannkuchen plattdrückt. Ein stärkerer Laserpuls verdampft dann das abgeflachte Tröpfchen und erzeugt ein Plasma, das ultraviolettes Licht emittiert. Um genügend Licht für die Herstellung von Mikrochips zu erzeugen, wird dieser Vorgang 50 Mal pro Sekunde wiederholt.
ASML brauchte mehr als 6 Milliarden Euro und 17 Jahre, um die erste Charge von EUV-Lithografiemaschinen zu entwickeln, die verkauft werden konnte. Aber die US-Regierung Druck ausgeübt auf die niederländische Regierung, damit das Unternehmen die Neuheit nicht nach China exportieren würde und das Land auf die ältere DUV-Technologie (Deep Ultraviolett) beschränkt wäre. Daher verwenden derzeit nur fünf Unternehmen ASML-EUV-Lithographiesysteme oder haben Pläne zur Verwendung angekündigt: Intel und Micron in den USA, Samsung und SK Hynix in Südkorea und TSMC in Taiwan.
Chinesische Unternehmen wie z Huawei, konnten ihre Entwürfe zuvor an Fabriken wie TSMC senden, um sie mit EUV-Lithographie herzustellen. Aber seit den USA eingeführt Sanktionen gegen China wird es fast unmöglich. Jedoch Huawei benötigt immer noch Zugriff auf fortschrittliche Knoten, die EUV-Lithographie verwenden, um Prozessoren weiter zu verbessern. Jetzt strebt das Unternehmen den Bau eigener EUV-Systeme an und bekommt dafür genug Kapital und Unterstützung von der Regierung. Aber es braucht noch viel Zeit.
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