Categories: Новини IT

Huawei патентує інструмент EUV-літографії для розробки <10 нм чипів

Компанія Huawei запатентувала один з важливих компонентів, що використовується в системах EUV-літографії (екстремальної ультрафіолетової літографії), який необхідний для створення процесорів високого класу на техпроцесі до 10 нм. Він розв’язує проблему інтерференційних візерунків, створюваних ультрафіолетом, які в іншому випадку робили б пластину нерівною.

На останньому етапі виробництва мікросхем компанія Huawei розв’язала проблему, викликану крихітними довжинами хвиль екстремального ультрафіолетового світла. Патент компанії описує масив дзеркал, які розбивають промінь світла на кілька підпроменів, що зіштовхуються з власними мікроскопічними дзеркалами.

Зараз системи EUV-літографії виробляються виключно голландською компанією ASML. Вони ґрунтуються на тих же принципах, що і старіші форми літографії, але використовують світло з довжиною хвилі близько 13,5 нм, що є майже рентгенівським випромінюванням. Компанія ASML генерує ультрафіолетове світло з крапель розплавленого олова, що швидко рухаються, діаметром близько 25 мікронів.

«Під час падіння, – пояснюють в ASML, – краплинки спочатку потрапляють під низькоінтенсивний лазерний імпульс, який сплющує їх у млинець. Потім потужніший лазерний імпульс випаровує сплющену краплю, створюючи плазму, яка випромінює ультрафіолетове світло. Щоб виробити достатньо світла для виготовлення мікрочипів, цей процес повторюється 50 тис. разів щосекунди»‎.

ASML знадобилося понад €6 млрд і 17 років, щоб розробити першу партію машин для EUV-літографії, які можна було б продати. Але уряд США чинив тиск на уряд Нідерландів, щоб компанія не експортувала новинку до Китаю, і країна була обмежена старішою технологією DUV (глибокий ультрафіолет). Тож наразі лише п’ять компаній використовують або оголосили про плани використання систем літографії ASML EUV: Intel і Micron в США, Samsung і SK Hynix в Південній Кореї та TSMC в Тайвані.

Китайські компанії, як-от Huawei, раніше могли надсилати свої розробки на такі заводи, як TSMC, для виробництва за допомогою EUV-літографії. Але з того часу, як США ввели санкції проти Китаю, це стає майже неможливим. Однак Huawei все одно потребує доступу до передових вузлів, які використовують EUV-літографію, щоб продовжувати вдосконалювати процесори. Тож зараз компанія націлена на створення власних систем EUV і отримує достатньо капіталу і підтримки від уряду. Але на це потрібно ще багато часу.

Ви можете допомогти Україні боротися з російськими окупантами. Найкращий спосіб зробити це – пожертвувати кошти Збройним Силам України через Savelife або через офіційну сторінку НБУ.

Читайте також:

Share
Svitlana Anisimova

Канцелярська маніячка, шалена читачка, фанатка кіновсесвіту Marvel. На 80% складаюся з guilty pleasure.

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked*